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在掃描電鏡應用中，低真空技術(shù)可以實(shí)現對非導電樣品的直接觀(guān)察，無(wú)需噴鍍貴金屬，以免造成樣品表面細節被掩蓋、尺寸發(fā)生改變，成分信息減弱或消失等情況。
低真空技術(shù)是利用入射電子束電離樣品倉內空氣分子產(chǎn)生正離子和自由電子（如圖1 所示），正離子在樣品表面荷電所形成的負電場(chǎng)的吸引下與負電荷產(chǎn)生中和，從而消除樣品表面荷電。
由于樣品表面荷電是因為入射電子束不能通過(guò)非導電樣品導走而產(chǎn)生的，因此樣品表面荷電會(huì )隨著(zhù)入射電子束對樣品的掃描而不斷產(chǎn)生，同時(shí)入射電子束也會(huì )持續不斷電離空氣分子，從而產(chǎn)生正離子。當二者數量達到動(dòng)態(tài)平衡時(shí)，樣品表面荷電現象消失。
如圖2 所示，利用掃描電鏡無(wú)噴鍍直接觀(guān)察蛋殼膜，0.1Pa 真空度下荷電嚴重，60Pa真空度下荷電消失。
圖2 利用低真空原理消除蛋殼膜表面荷電
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