光子設備被廣泛應用于自然科學(xué)中，用于制造，操作和探測光。在未來(lái)，制造先進(jìn)的光子設備將是一種挑戰，并需要靈活性和可調諧性。因為它們需要先進(jìn)的三維光刻技術(shù)， 制造這些設備并非易事。激光直寫(xiě)技術(shù)（DLW）是一種有趣的方式，它的目標是運用液態(tài)晶體光刻膠作為感光材料。

在這篇博客中， 我們將描述用于生產(chǎn)人造橡膠光學(xué)可調諧光子設備的光刻膠是如何進(jìn)行特殊設計和測試的，以及如何用掃描電子顯微鏡(SEM)來(lái)幫助設計改進(jìn)過(guò)程。

圖1： 激光直寫(xiě)流程(DWL)： i） 光束聚焦，ii） 激光書(shū)寫(xiě)，iii） 開(kāi)發(fā)和iv） 完成結構 （A. Selimis et al, Microelectronic Engineering, 132 (2015), 83-89）。

圖2: 左邊的SEM顯微圖和線(xiàn)條放大的圖像，是通過(guò)不同的激光功率和書(shū)寫(xiě)速度獲得的。

圖3: 使用不同的光功率和不同光刻膠（a – c）、 特定結構放大圖（d和e）的掃描電子顯微鏡的結構圖案，并放大圖像。標尺為10µm。

圖4:圓柱形結構的SEM圖像，用于研究光刻膠的光響應。標尺寸為 10µm。