掃描電鏡使用技巧 Get，有機顆粒樣品分析有妙招

飛納臺式掃描電鏡顆粒統計分析測量系統（Phenom Particle Metric），簡(jiǎn)稱(chēng)顆粒系統，由荷蘭 Phenom-World 公司發(fā)布于 2013 年 11 月。顆粒系統通過(guò)顆粒與背景襯度的差異對顆粒進(jìn)行圖像識別，在獲取 SEM 圖像的同時(shí)可以獲取所有顆粒的形貌數據，例如直徑、等效面積、等效體積、圓度等。并且可以將這些數據進(jìn)行統計。顆粒探測范圍：100 nm - 0.1 mm，顆粒探測速度高達 1000 顆/分。

圖 1. Phenom Particle Metric 配置圖

在實(shí)際操作過(guò)程中，顆粒與背景元素差異大的顆?？梢院芎玫淖R別，但由于圖像識別技術(shù)局限性，如顆粒與背景元素差異較小，例如有機顆粒，則軟件難以進(jìn)行有效識別，在這種情況下，我們可以采用噴金的辦法人為創(chuàng )造出黑色顆粒邊界，從而增加軟件識別的準確性。

粘在導電膠表面的顆粒與導電膠之間形成空隙區，如圖 2 右上所示，在噴金過(guò)程中，此孔隙區無(wú)法被金覆蓋。噴金完成之后，結構示意圖如圖 3 所示。此時(shí)在 SEM 視圖下，可以清晰看到顆粒邊緣的黑色邊界，圖 4 為顆粒在噴金后陰影邊界與顆粒識別案例。識別結果證明適當噴金有利于提升顆粒系統識別的準確性。而噴金多少呢？我們通過(guò)實(shí)踐總結規律得出，噴金厚度為顆粒尺寸 5 ~ 10% 范圍內，可以有效增強顆粒系統識別的準確性。

圖 2. 顆粒樣品噴金過(guò)程示意圖

圖 3. 顆粒樣品噴金結果示意圖

圖 4. 噴金后陰影邊界與顆粒識別案例

在拍照過(guò)程中，應注意調節圖像的亮度/對比度，如亮度對比度都較低，則容易造成軟件識別率下降，如圖 5 所示。因此，