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深入了解掃描電鏡:掃描電鏡(SEM)電子透鏡的介紹

 更新時間:2018-01-03 點擊量:9881

掃描電鏡(SEM)利用電子束對樣品進行納米級分辨率的圖像分析。燈絲釋放出電子,形成平行的電子束。然后,電子束通過透鏡聚焦于樣品表面。電子透鏡是如何工作的?存在哪幾種電子透鏡?電子透鏡是如何聚焦電子的?在這個博客中,我們將回答這些問題,并對電子透鏡的工作原理給出一個大致的解釋。

 

掃描電鏡:電子、電子束和電子透鏡

 

在上一篇博客中,我們簡短地介紹了掃描電鏡(SEM)是如何工作的。電子從燈絲中釋放出來,然后平行于電子透鏡。你可以在這里閱讀更多關(guān)于CeB6燈絲和鎢燈絲的比較。

 

電子束穿過鏡筒——由一組透鏡組成,透鏡把電子束聚焦到樣品表面上。電子顯微鏡透鏡可以是靜電的,也可以是有磁性的,這取決于它們是用靜電場還是磁場來聚焦電子束。為了更好地理解這些透鏡的工作原理,讓我們回過頭來看看電子是如何在靜電場中偏轉(zhuǎn)的。[1,2]

 

導(dǎo)向板

 

電子是帶負電的粒子,在高能量的鏡筒中穿行。使這些粒子偏轉(zhuǎn)的一種方法是讓它們通過由兩個板塊在電勢+ U和- U上產(chǎn)生的電場,如圖1a所示。

 

在電場的影響下,電子的偏轉(zhuǎn)角度取決于電子能量,板塊之間的電場以及板塊的長度。

 

電子的速度越快或能量越強,偏轉(zhuǎn)角度就會越小。電場越高,板塊越長,偏轉(zhuǎn)角度越大。一個由兩種不同電位板組成的裝置稱為導(dǎo)向板。

 

為了得到一個靜電透鏡,可以考慮反射導(dǎo)向板,這樣,在光軸上運動的電子可以聚焦在同一點上,如圖1b所示。

 

電場只存在于電子開始進入和結(jié)束電子行程的過程,我們?nèi)绾文艿玫较駡D1b所示的透鏡效應(yīng)?這個問題的答案在于,只要有透鏡效應(yīng),電子束的能量就會產(chǎn)生改變,這意味著電子要么加速要么減速。這可以通過在電子束周圍的不同電勢來完成。

 

圖1: (a)電子束導(dǎo)向板和(b)靜電透鏡。

 

靜電透鏡

 

靜電透鏡由金屬板組成,與高電壓相連接,電子穿過電子透鏡。單孔透鏡在高電壓下由一個單一的金屬板組成。

 

單孔透鏡不僅可以終止加速場還能產(chǎn)生加速場。在*個例子中,透鏡是正極的,這意味著電子束匯聚,如圖2a所示,而在第二種情況下,透鏡是負極的,這意味著電子束發(fā)散,如圖2b所示。

 

雙孔透鏡由兩個金屬板組成,對準(zhǔn)孔徑,有不同的電位。圖2c顯示了一個加速的雙孔透鏡,其中兩個板塊之間的電場位于頂板上。

 

進入這個透鏡的電子會感覺到一個強大的磁場,使它們靠近光軸。當(dāng)它們穿過第二個板塊時,電子會感覺到反向的力推動它們向透鏡移動。總的來說,這是一個正極透鏡,電子束聚焦在第二個板塊之下的平面上。

 

一個三孔徑的Einzel透鏡由三個有對齊孔徑的板組成,它們可以有相同的直徑,也可以有不同的直徑。在電子光學(xué)中,Einzel透鏡通常被用于在透鏡的入口和出口處,具有相等的電子電位。

 

在圖2d中,一個加速的Einzel透鏡顯示,三個電極產(chǎn)生三個透鏡:*個和第三個是正級的,第二個是負級的??傮w的透鏡是正極的,光束聚焦在第三個透鏡下面的平面上。

 

圖2:不同類型靜電透鏡的示意圖:單孔徑正負透鏡(a,b),雙孔透鏡(c)和三孔徑Einzel透鏡(d)。

 

電磁透鏡

 

電磁透鏡使用洛倫茲力,它與電子的電荷和速度成正比,以偏轉(zhuǎn)電子。磁透鏡由一個金屬體(稱為鐵磁電路)組成,以兩個極片結(jié)束。

 

磁場由位于鐵磁電路頂部的線圈所產(chǎn)生,如圖3所示。透鏡的強度可以通過改變磁場B來改變,這是通過改變桿件的幾何形狀,即桿件之間的距離,以及線圈電流來完成的。

 

圖3:磁透鏡

 

掃描電鏡電子透鏡

 

電子束由電子組成,電子被電子源釋放,有一組透鏡。電子被電子透鏡壓縮成束,然后通過zui終的透鏡聚焦于樣品表面,其也被稱為物鏡,如圖4所示。電子源傾斜,樣品上的掃描的電子束是由電子源和右邊zui后一個透鏡的線圈產(chǎn)生。

 

圖4:電子柱

 

所有的掃描電鏡(SEM)——無論我們是在談?wù)撆_式還是落地式——都有一個帶有靜電透鏡和電磁透鏡的鏡筒。對臺式掃描電鏡(SEM)和落地式掃描電鏡(SEM)的區(qū)別感到好奇,哪種掃描電鏡對您的研究zui有利?

 

 

 

應(yīng)用文獻

 

[1] Introduction to charged particle optics, P. Kruit, Delft University of Technology

 

[2] Scanning electron microscopy, physics of image formation and microanalysis, L. Reimer, Springer

 

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